窒素とリンをゲート酸化膜界面へ導入したシリコンカーバイド電界効果トランジスタの電気特性改善

窒素とリンをゲート酸化膜界面へ導入したシリコンカーバイド電界効果トランジスタの電気特性改善

チッソ ト リン オ ゲート サンカマク カイメン エ ドウニュウシタ シリコン カーバイド デンカイ コウカ トランジスタ ノ デンキ トクセイ カイゼン

荒岡幹

生駒 : 奈良先端科学技術大学院大学, 2012.3

Thesis / Diss.

Volume No.

No. Printing year Location Call Number Material ID Circulation class Status Waiting

1

R009185

2

  • [MS]2012(1)

Restricted

Details

Publication year

2012

Alternative title

Improvement of SiC MOSFET characteristic by introduced nitrogen and phosphorus

Series title

奈良先端科学技術大学院大学物質創成科学研究科修士論文 ; 2012年3月

Note

学位記番号: 修第5466号

学位授与年月日: 2012/3/23

学位の種類: 修士(工学)

学生番号: 1031005

Country of publication

Japan

Title language

Japanese (jpn)

Language of texts

Japanese (jpn)

Author information

荒岡, 幹 (アラオカ, ツヨシ)

Subject

SiC

シリコンカーバイド

MOS界面

POCl3

NO