極薄トンネル酸化膜を有するナノドット埋め込みMOSデバイスの作製と電荷充放電特性

極薄トンネル酸化膜を有するナノドット埋め込みMOSデバイスの作製と電荷充放電特性

ゴクウス トンネル サンカ マク オ ユウシタ ナノ ドット ウメコミ MOS デバイス ノ サクセイ ト デンカ ジュウホウデン トクセイ ヒョウカ

入船裕行

生駒 : 奈良先端科学技術大学院大学, 2009.3

Thesis / Diss.

Volume No.

No. Printing year Location Call Number Material ID Circulation class Status Waiting

1

R006882

2

  • [MS]2009(2)

Restricted

Details

Publication year

2009

Alternative title

Charging-discharging characteristics of nanodot embedded MOS devices using ultra-thin tunnel oxide

Series title

奈良先端科学技術大学院大学物質創成科学研究科修士論文 ; 2009年3月

Note

学位記番号: 修第4454号

学位授与年月日: 2009/03/24

学位の種類: 修士(工学)

学生番号: 0731009

Country of publication

Japan

Title language

Japanese (jpn)

Language of texts

Japanese (jpn)

Author information

入船, 裕行 (イリフネ, ヒロユキ)

Subject

バイオナノプロセス

極薄トンネル酸化膜

新機能素子