励起活性種を用いたSi上高誘電率HfSiO膜の低温窒化と界面物性評価

励起活性種を用いたSi上高誘電率HfSiO膜の低温窒化と界面物性評価

レイキ カッセイシュ オ モチイタ Siジョウ コウユウデンリツ HfSiOマク ノ テイオン チッカ ト カイメン ブッセイ ヒョウカ

岡本武士

生駒 : 奈良先端科学技術大学院大学, 2004.3

Thesis / Diss.

Volume No.

No. Printing year Location Call Number Material ID Circulation class Status Waiting

1

R003066

2

  • [MS]2004(4)

Restricted

Details

Publication year

2004

Alternative title

Nitridation of HfSiO,

Series title

奈良先端科学技術大学院大学物質創成科学研究科修士論文 ; 2004年3月

Note

学位記番号: 修第2718号

授与年月日: 2004/03/24

学生番号: 0231015

Country of publication

Japan

Title language

Japanese (jpn)

Language of texts

Japanese (jpn)

Author information

岡本, 武士 (オカモト, タケシ)

Subject

HfSiO

窒素

励起活性種

窒化