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Reliability of SiO2/GaN metal-oxide-semiconductor structure

Reliability of SiO2/GaN metal-oxide-semiconductor structure

Lin Tengda

生駒 : 奈良先端科学技術大学院大学, 2020.3

Thesis / Diss.

Volume No.

Total: 2
No. Printing year Location Call Number Material ID Circulation class Status Waiting

1

R016271

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1

  • Abstract

R016307

Details

Publication year

2020

Alternative title

SiO2/GaN MOS構造の信頼性に関する研究

Series title

奈良先端科学技術大学院大学物質創成科学研究科博士論文 ; 2020年3月

Note

学位記番号: 博第1699号

報告番号: 甲第1699号

学位授与年月日: 2020/03/31

学位の種類: 博士(工学)

Country of publication

Japan

Title language

English (eng)

Language of texts

English (eng)

Author information

Lin, Tengda

Subject

reliability

MOS structure

GaN