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長期埋植に向けた人工視覚用CMOSスマート電極デバイスの基本構造と作製プロセスに関する研究

長期埋植に向けた人工視覚用CMOSスマート電極デバイスの基本構造と作製プロセスに関する研究

チョウキ マイショク ニ ムケタ ジンコウ シカクヨウ CMOS スマート デンキョク デバイス ノ キホン コウゾウ ト サクセイ プロセス ニ カンスル ケンキュウ

寺田啓介

生駒 : 奈良先端科学技術大学院大学, 2019.3

Thesis / Diss.

Volume No.

Total: 1
No. Printing year Location Call Number Material ID Circulation class Status Waiting

1

R015645

2

  • [MS]2018(9)

Restricted

Details

Publication year

2019

Alternative title

Study on fabrication process of CMOS smart electrodes for retinal prosthesis toward chronic implantation

Series title

奈良先端科学技術大学院大学物質創成科学研究科修士論文 ; 2019年3月

Note

学位記番号: 修第7950号

学位授与年月日: 2019/03/31

学位の種類: 修士(工学)

Country of publication

Japan

Title language

Japanese (jpn)

Language of texts

Japanese (jpn)

Author information

寺田, 啓介 (テラダ, ケイスケ)

Subject

人工視覚

STS方式

長期埋植

CMOS

作製プロセス

刺激電極デバイス