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Development of Laser Doping Process at Room Temperature for High Efficiency Crystalline Silicon Solar Cell Fabrication

Development of Laser Doping Process at Room Temperature for High Efficiency Crystalline Silicon Solar Cell Fabrication

西村英紀

生駒 : 奈良先端科学技術大学院大学, 2015.3

Thesis / Diss.

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  • Abstract

R011576

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Details

Publication year

2015

Alternative title

高効率結晶シリコン太陽電池作製に向けた室温レーザードーピングプロセスの開発

Series title

奈良先端科学技術大学院大学物質創成科学研究科博士論文 ; 2015年3月

Note

学位記番号: 博第1275号

報告番号: 甲第1275号

学位授与年月日: 2015/03/24

学位の種類: 博士(工学)

学生番号: 1241012

Country of publication

Japan

Title language

English (eng)

Language of texts

English (eng)

Author information

西村, 英紀 (ニシムラ, ヒデキ)

Subject

結晶シリコン

太陽電池

レーザープロセス

高効率化

ドーピングプロセス

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