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塗布型酸化物半導体を用いた薄膜トランジスタの作製プロセスの最適化

塗布型酸化物半導体を用いた薄膜トランジスタの作製プロセスの最適化

トフガタ サンカブツ ハンドウタイ オ モチイタ ハクマク トランジスタ ノ サクセイ プロセス ノ サイテキカ

長田至弘

生駒 : 奈良先端科学技術大学院大学, 2014.3

Thesis / Diss.

Volume No.

Total: 1
No. Printing year Location Call Number Material ID Circulation class Status Waiting

1

R010991

2

  • [MS]2014(4)

Restricted

Details

Publication year

2014

Alternative title

Optimization of the fabrication process of thin-film transistors using a printed oxide semiconductor

Series title

奈良先端科学技術大学院大学物質創成科学研究科修士論文 ; 2014年3月

Note

学位記番号: 修第6172号

学位授与年月日: 2014/03/24

学位の種類: 修士(工学)

学生番号: 1231019

Country of publication

Japan

Title language

Japanese (jpn)

Language of texts

Japanese (jpn)

Author information

長田, 至弘 (オサダ, ユキヒロ)

Subject

水溶液系チャネル材料

スピンコートプロセス

塗布型InZnO TFT

焼成温度依存性