セイタイ チョウブンシ オ モチイタ シリコン ハクマク ノ テイオン ケッショウカ ニ オケル ゼンクタイ ノ ケンキュウ
布施和志
生駒 : 奈良先端科学技術大学院大学, 2011.3
Thesis / Diss.
| No. | Printing year | Location | Call Number | Material ID | Circulation class | Status | Waiting |
|---|---|---|---|---|---|---|---|
|
1 |
|
|
R008521 |
|
|
|
|
|
2 |
|
|
|
Restricted |
|
2011
Study of precursors in low temperature crystallization of amorphous Si films
奈良先端科学技術大学院大学物質創成科学研究科修士論文 ; 2011年3月
学位記番号: 修第5197号
学位授与年月日: 2011/03/24
学位の種類: 修士(工学)
学生番号: 0931067
Japan
Japanese (jpn)
Japanese (jpn)
布施, 和志 (フセ, カズシ)
