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高性能薄膜トランジスタに向けた酸化亜鉛/絶縁膜界面制御とその電気特性評価

高性能薄膜トランジスタに向けた酸化亜鉛/絶縁膜界面制御とその電気特性評価

コウセイノウ ハクマク トランジスタ ニ ムケタ サンカ アエン ゼツエンマク カイメン セイギョ ト ソノ デンキ トクセイ ヒョウカ

藤井茉美

生駒 : 奈良先端科学技術大学院大学, 2009.3

Thesis / Diss.

Volume No.

Total: 1
No. Printing year Location Call Number Material ID Circulation class Status Waiting

1

R006944

2

  • [MS]2009(12)

Restricted

Details

Publication year

2009

Alternative title

Electrical characterization and control of the interface bwtween ZnO and Insulator for high performance thin film transistor

Series title

奈良先端科学技術大学院大学物質創成科学研究科修士論文 ; 2009年3月

Note

学位記番号: 修第4516号

学位授与年月日: 2009/03/24

学位の種類: 修士(工学)

学生番号: 0731074

Country of publication

Japan

Title language

Japanese (jpn)

Language of texts

Japanese (jpn)

Author information

藤井, 茉美 (フジイ, マミ)

Subject

酸化亜鉛

薄膜トランジスタ

捕獲準位

界面

絶縁膜

劣化