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液体供給MOCVD法によるルテニウム系酸化物薄膜の作製と評価

液体供給MOCVD法によるルテニウム系酸化物薄膜の作製と評価

エキタイ キョウキュウ MOCVDホウ ニ ヨル ルテニウムケイ サンカブツ ハクマク ノ サクセイ ト ヒョウカ

一瀬裕

生駒 : 奈良先端科学技術大学院大学, 2009.3

Thesis / Diss.

Volume No.

Total: 1
No. Printing year Location Call Number Material ID Circulation class Status Waiting

1

R006879

2

  • [MS]2009(1)

Restricted

Details

Publication year

2009

Alternative title

Fabrication and characterization of Ru-based oxide thin films by liquid-delivery MOCVD

Series title

奈良先端科学技術大学院大学物質創成科学研究科修士論文 ; 2009年3月

Note

学位記番号: 修第4451号

学位授与年月日: 2009/03/24

学位の種類: 修士(工学)

学生番号: 0731006

Country of publication

Japan

Title language

Japanese (jpn)

Language of texts

Japanese (jpn)

Author information

一瀬, 裕 (イチセ, ヒロシ)

Subject

RuO2

MOCVD

FeRAM

SrRuO3