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電子線誘起電流法(EBIC法)を用いた4H-SiCエピタキシャル成長層の評価

電子線誘起電流法(EBIC法)を用いた4H-SiCエピタキシャル成長層の評価

デンシセン ユウキ デンリュウホウ オ モチイタ 4H-SiC エピタキシャル セイチョウソウ ノ ヒョウカ

二谷聰

生駒 : 奈良先端科学技術大学院大学, 2005.3

Thesis / Diss.

Volume No.

Total: 1
No. Printing year Location Call Number Material ID Circulation class Status Waiting

1

R003494

2

  • [MS]2005(13)

Restricted

Details

Publication year

2005

Alternative title

Characterization of 4H-SiC epilayer by Electron Beam Induced Current (EBIC) method

Series title

奈良先端科学技術大学院大学物質創成科学研究科修士論文 ; 2005年3月

Note

学位記番号: 修第3120号

授与年月日: 2005/03/24

学生番号: 0331066

Country of publication

Japan

Title language

Japanese (jpn)

Language of texts

Japanese (jpn)

Author information

二谷, 聰 (ニタニ, サトシ)

Subject

SiC

EBIC

電子線誘起電流法

拡散長

欠陥