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高圧水蒸気処理による高誘電率ハフニウム系絶縁膜の高品質化の研究

高圧水蒸気処理による高誘電率ハフニウム系絶縁膜の高品質化の研究

コウアツ スイジョウキ ショリ ニヨル コウ ユウデンリツ ハフニウムケイ ゼツエンマク ノ コウヒンシツカ ノ ケンキュウ

中村秀碁

生駒 : 奈良先端科学技術大学院大学, 2005.3

Thesis / Diss.

Volume No.

Total: 1
No. Printing year Location Call Number Material ID Circulation class Status Waiting

1

R003492

2

  • [MS]2005(12)

Restricted

Details

Publication year

2005

Alternative title

Study of making of hafnium dielectric film high-quality by high pressure vapor annealing

Series title

奈良先端科学技術大学院大学物質創成科学研究科修士論文 ; 2005年3月

Note

学位記番号: 修第3115号

授与年月日: 2005/03/24

学生番号: 0331060

Country of publication

Japan

Title language

Japanese (jpn)

Language of texts

Japanese (jpn)

Author information

中村, 秀碁 (ナカムラ, ヒデキ)

Subject

HfSiO

Vapor annealing