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酸素活性種を用いた極薄Si酸化膜の低温形成とその電子物性解析

酸素活性種を用いた極薄Si酸化膜の低温形成とその電子物性解析

サンソ カッセイシュ オ モチイタ ゴクハク ケイソ サンカマク ノ テイオン ケイセイ ト ソノ デンシ ブッセイ カイセキ

西田直樹

生駒 : 奈良先端科学技術大学院大学, 2000.3

Thesis / Diss.

Volume No.

Total: 1
No. Printing year Location Call Number Material ID Circulation class Status Waiting

1

R001409

2

  • [MS]2000(14)

Restricted

Details

Publication year

2000

Series title

奈良先端科学技術大学院大学物質創成科学研究科修士論文 ; 2000年3月

Note

学位記番号: 修第1423号

授与年月日: 2000/03/24

学生番号: 9831080

Country of publication

Japan

Title language

Japanese (jpn)

Language of texts

Japanese (jpn)

Author information

西田, 直樹 (ニシダ, ナオキ)