基板傾斜角の異なるシリコンカーバイドを用いた縦型絶縁ゲート電界効果トランジスタの作製と評価

基板傾斜角の異なるシリコンカーバイドを用いた縦型絶縁ゲート電界効果トランジスタの作製と評価

キバン ケイシャカク ノ コトナル シリコン カーバイド オ モチイタ タテガタ ゼツエン ゲート デンカイ コウカ トランジスタ ノ サクセイ ト ヒョウカ

上岡義弘

生駒 : 奈良先端科学技術大学院大学, 2011.3

学位論文

巻号情報

全1件
No. 刷年 所在 請求記号 資料ID 貸出区分 状況 予約人数

1

R008470

2

  • [MS]2011(2)

禁帯出

詳細情報

刊年

2011

別書名

Fabrication and evaluation of SiC trench MOSFETs on different off-axis substrates

シリーズ名

奈良先端科学技術大学院大学物質創成科学研究科修士論文 ; 2011年3月

注記

学位記番号: 修第5141号

学位授与年月日: 2011/03/24

学位の種類: 修士(工学)

学生番号: 0931010

標題言語

日本語 (jpn)

本文言語

日本語 (jpn)

著者情報

上岡, 義弘 (ウエオカ, ヨシヒロ)

件名

SiC

MOSFET

炭化ケイ素

トレンチ

オフ角

移動度