イオン チュウニュウホウ ニ ヨル Si ナノ クリスタル ノ サクセイ ト セイギョ
前田陽平
生駒 : 奈良先端科学技術大学院大学, 2004.3
1
R003119
2
禁帯出
2004
Preparation and evaluation of silicon nanocrystals by ion implantation
奈良先端科学技術大学院大学物質創成科学研究科修士論文 ; 2004年3月
学位記番号: 修第2771号
授与年月日: 2004/03/24
学生番号: 0231074
日本語 (jpn)
前田, 陽平 (マエダ, ヨウヘイ)
ナノクリスタル
量子ドット
Si
イオン注入
ナノプロセス
ルミネッセンス
ナノクリスタル量子ドットSiイオン注入ナノプロセスルミネッセンス
