履歴を消去して終了
詳細検索
ブックマーク
ログイン
English
ヘルプ
履歴を消去して終了
詳細検索
ブックマーク
ログイン
English
ヘルプ
ゲストさん
マイライブラリ
前へ
次へ
トップ画面
詳細(学内所蔵)
第 5 章 インダクタ材料と技術 第 1 節 ソフトフェライトの技術発展と高性能化 1 はじめに 2 通信機用フェライト 2.1 高安定高透磁率材(H5A 材) 2.2 微細構造の検討 2.3 低損失材(H6B 材)の雰囲気トンネル炉焼成 2.4 温度特性 3 HDD 用フェライトバルクヘッド(高密度フェライト) 4 スイッチング電源用フェライト(高磁束密度,低パワーロス材) 5 積層チップインダクタ 6 おわりに
落合 達四郎
論文
ブックマーク登録
PDF
文献管理
RIS形式で出力
SFX
メールで送信
宛先
件名
キャンセル
送信
詳細情報
掲載資料
積層デバイス作成の極意,
p.237-254
前へ
次へ
ブックマークを編集
リストを選択
メモ
編集内容を保存
リストを選択
+
作成
キャンセル
決定
キャンセル
OK
ブックマークに登録
リストを選択
指定なし
メモ
ブックマークに登録