詳細情報

刊年

2012

形態

電子化映像資料

別書名

情報素子工学

Information Device Engineering

シリーズ名

授業アーカイブ ; 平成24年度

注記

期間: 2012年9月4日から2012年10月5日

講義場所: 物質創成科学研究科大講義室(MS)

9月4日 : 光ナノサイエンス特別講義「ワイドギャップ半導体Ⅲ族窒化物/SiCのヘテロエピタキシャル成長とデバイス応用」京都大学大学院工学研究科電子工学専攻半導体物性工学分野　須田淳教授

9月19日 : 光ナノサイエンス特別講義「SiC薄膜を介したSi基板上エピタキシャルグラフェン製膜とグラフェンデバイス」東北大学電気通信研究所　末光眞希教授

標題言語

日本語 (jpn)

本文言語

日本語 (jpn)

著者情報

浦岡, 行治 (ウラオカ, ユキハル)

石河, 泰明 (イシカワ, ヤスアキ)

須田, 淳 (スダ, ジュン)

末光, 眞希 (スエミツ, マキ)

参照

シラバス/Syllabus