NAIST header image SFX
言語選択
Title: Atomic layer deposition—Sequential self-limiting surface reactions for advanced catalyst “bottom-up” synthesis
Source:

Surface Science Reports [0167-5729] Lu, Junling yr:2016 vol:71 iss:2 pg:410 -472

Collapse list of basic services ベーシックサービス
フルテキスト
Elsevier SD Chemistry でフルテキストを見る
年: 巻: 号: 開始頁:
GO
認証: ”gakunin GakuNin – shibboleth authentication
Elsevier SD Materials Science でフルテキストを見る
年: 巻: 号: 開始頁:
GO
認証: ”gakunin GakuNin – shibboleth authentication
所蔵情報
NAIST OPAC で所蔵を確認 GO
Now Loading...
CiNii Research で所蔵を確認 GO
NDL Search で所蔵を確認 GO
OCLC WorldCat ® Service OCLC WorldCat ® Service Icon で所蔵を確認 GO
Expand list of advanced services アドバンスサービス